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激光椭偏仪
所属栏目：泛半导体
发布时间：2025-06-17
关注度：288次
简单介绍：激光椭偏仪通过0.1nm膜厚精度与1秒高速测量，为光伏和半导体行业提供镀膜质量监控方案。采用相位补偿算法消除死角区，支持-60℃~300℃环境测试，量产效率提升40%
咨询电话：18123690305
激光椭偏具有：单点测试速度约 1 秒、选配型号支持Mapping模式、可拓展为在线化，机械手送片测试或者皮带传送测试。设备采用632.8nm He-Ne激光器作为光源并配置相位补偿器，可根据试片反射光强自动调配增益。
产品特点
简单易用：一键完成厚度\折射率
高速测试：标准单点测试速度低于1秒，优化可至0.3秒/点
应用拓展：可拓展在线化、全自动化、远程化
规格参数
| 项目 | 参数 |
|---|---|
| 型号命名 | 工业用：XE3000 / 教学用：LE-M5 |
| 测试参数 | 椭偏参数Psi/Del，膜厚折射率 |
| 测试精度 | 厚度0.1nm，折射率0.001 |
| 激光波长 | 632.8nm |
| 光学探测 | 增益自动调圆 |
| 光学补偿 | 单补偿器 |
| 选配 | 多点 X-Y 坐标(笛卡尔坐标)，测试点位可软件编辑 皮带传送测试，机械手传送测试（CT时间0.5秒） |
| MES | 支持数据库及csv共享文件 |
